深紫外光致抗蚀剂

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导读:深紫外光致抗蚀剂 : 利用波长为200~300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂,由于波长短,可减少衍射效应,深紫外光刻的分辨率可达0.5μm,但它的实际分辨率约为1~1.5μm。一般说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。

    深紫外光致抗蚀剂 : 利 用波长为200~300nm的深紫外线进行光刻 的抗蚀剂,由于波长短,可减少衍射效应,深 紫外光刻的分辨率可达0.5μm,但它的实际 分辨率约为1~1.5μm。一般说来利用辐射化 学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作 深紫外抗蚀剂。

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