高纯氧
导读:高纯氧 : O2,纯度≥99.995%,尘埃 (φ≥0.5μm) ≤3.5粒/升,杂质含量N2≤1×10-5,Ar≤5×10-6、H2O≤1×10-6、CO2≤0.5×10-6,在常温常压下氧为无色、无臭、无味气体。在常压下冷至-182.9℃时即成天蓝色透明液体。一般以空分装置生产的氧为原料经两级精馏后得99.5%以上的氧,再进入高纯氧塔,经过两次低温精馏后得99.995%以上
高纯氧 : O2,纯度≥
99.995%,尘埃 (φ≥0.5μm) ≤3.5粒/升,
杂质含量N2≤1×10-5,Ar≤5×10-6、H2O
≤1×10-6、CO2≤0.5×10-6,在常温常压下
氧为无色、无臭、无味气体。在常压下冷至
-182.9℃时即成天蓝色透明液体。
一般以空分装置生产的氧为原料经两级
精馏后得99.5%以上的氧,再进入高纯氧
塔,经过两次低温精馏后得99.995%以上的
高纯氧。该气体主要用于半导体器件的热氧
化、扩散、化学气相沉积、等离子、干刻蚀
等工艺中,还可用于光导纤维、彩色显像管
制造并作标准气、校正气、零点气等。