电子用特种气体及气相沉积用高纯物质

    电子用特种气体及气相沉积用高纯物质 : 电子用特种气体包括纯气 和二元、多元混合气,用于半导体器件生产 中的晶体生长、热氧化、外延、扩散、CVD、 离子注入、蚀刻等多道工序中。按具体用途 又可分为外延气、CVD气、掺杂气、蚀刻气、 保护气等。特种气体除纯度须达99.999%～ 99.9999%外,对尘埃颗粒也有一定要求,气 体中的颗粒会造成光刻缺陷、氧化层不平整、 影响制版质量,必须尽力除去。气相沉积用 高纯物质或称CVD气主要有SiH₄、SiH₂Cl₂、 PH₃、AsH₃、B₂H₆、WF₆等。
为了确保达到洁净度要求,纯化设备、管 道、阀门等均需经电化学抛光处理,供气系 统还应安装颗粒过滤器。